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我的位置:首頁  >  產(chǎn)品中心  >  半導體烘烤設(shè)備  >  氮氣/充氮烘箱  >  JS-NH3090NH3氨氣烘箱 氨氣真空系統(tǒng) 氨氣圖形反轉(zhuǎn)爐
NH3氨氣烘箱 氨氣真空系統(tǒng) 氨氣圖形反轉(zhuǎn)爐

NH3氨氣烘箱 氨氣真空系統(tǒng) 氨氣圖形反轉(zhuǎn)爐通過其化學性質(zhì),在光刻膠中發(fā)揮著調(diào)整極性、優(yōu)化圖形轉(zhuǎn)移效果的重要作用,是微細制造領(lǐng)域的關(guān)鍵材料之一。

  • 產(chǎn)品型號:JS-NH3090
  • 廠商性質(zhì):生產(chǎn)廠家
  • 更新時間:2025-09-17
  • 訪  問  量:1045
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產(chǎn)品詳情

NH3氨氣烘箱 氨氣真空系統(tǒng) 氨氣圖形反轉(zhuǎn)爐用途:

   在光刻膠的處理過程中,調(diào)整其極性對于實現(xiàn)精確的圖形轉(zhuǎn)移至關(guān)重要。氨氣作為一種有效的極性調(diào)節(jié)劑,在光刻膠中發(fā)揮著關(guān)鍵作用。使得光刻膠在半導體、光學器件及生物芯片等制造領(lǐng)域能夠更精準地適應(yīng)圖形轉(zhuǎn)移的需求,提升產(chǎn)品的制造質(zhì)量和精度。氨氣通過其化學性質(zhì),在光刻膠中發(fā)揮著調(diào)整極性、優(yōu)化圖形轉(zhuǎn)移效果的重要作用,是微細制造領(lǐng)域的關(guān)鍵材料之一。

   氨氣真空烘烤系統(tǒng)廣泛應(yīng)用于新材料(如超材料、表面工程)、前沿物理研究(如超導、量子)、仿生(功能性表面)、光子(微納光學、光波導、光子晶體)、生物(DNA測試、納流控)、微電子等研究領(lǐng)域,以及3D結(jié)構(gòu)光器件、光子芯片、高功率芯片等加工領(lǐng)域。

NH3氨氣烘箱 氨氣真空系統(tǒng) 氨氣圖形反轉(zhuǎn)爐技術(shù)性能:

容量:2-12寸晶圓或方片兼容,可定制

溫度范圍: RT-200℃

真空度: ≤100pa

控制儀表: 人機界面+PLC

氣路控制: 多氣路控制

真空泵: 高品質(zhì)渦旋無油泵

保護裝置: NH3監(jiān)測保護,超溫保護,漏電保護等

NH3氨氣烘箱 氨氣圖形反轉(zhuǎn)爐特點:

具有重復性好

更加穩(wěn)定

環(huán)保,對人體無害的顯著優(yōu)點

也可用于其它硅烷沉積工藝的處理


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